Установки вакуумного напыления
Вакуумное оборудование АО «НПП «ЭСТО» используется в лабораториях, на БИС, ГИС, МЭМС, НЭМС производствах, в оптоэлектронике, силовой и СВЧ электронике. В продуктовом портфеле АО «НПП «ЭСТО» установки для магнетронного, ионно-лучевого напыления, ионного и плазмохимического травления.
Установка вакуумного напыления M–Ray VP
- Тип оборудования Установка магнетронного напыления для резистивных сплавов и металлизации ГИС
- Назначение Магнетронное нанесение тонких пленок на подложки 68×40 мм одновременно с двух сторон с нагревом и ионной очисткой.
- Обработка Двухстороннее нанесение на вертикальном вращающемся барабане; возможна односторонняя обработка.
Вакуумная установка магнетронного напыления M-Ray V1S
- Варианты загрузки изделий: Подложка 60*48мм – 111 шт; Подложка ø100мм – 28 шт; Подложка ø150мм – 7 шт; Способ загрузки изделий: ручная загрузка через дверь камеры на носителях.
- Технологические устройства: Магнетрон до 4 шт; Источник ионов 1 шт; Нагреватели 2 шт; Ионная очистка Ar или O₂; Нагрев
- Измерительные системы: Датчик температуры, установлен на барабане 1 шт. Датчик сопротивления (свидетель), установлен на барабане 1 шт.
Установка вакуумного напыления M–Ray H1S
- Варианты загрузки изделий: Односторонняя обработка подложек 60*48мм – 20 шт. Односторонняя обработка подложек ø100мм – 8 шт. Двухсторонняя обработка подложек 60*48мм – 20шт. Односторонняя обработка с использованием устройства переворота 60*48мм – 40 шт. Способ загрузки изделий: ручная загрузка через дверь камеры непосредственно на диск или на носителях.
- Технологические устройства (количество гнезд для установки – 5): Магнетрон: до 5 шт. Испаритель термический с резистивным нагревом: до 5 шт. Испаритель термический с электронным нагревом: до 5 шт. Ионно-лучевой распылитель (занимает два гнезда): до 2 шт. Источник ионов: до 5 шт.
- Опции: Дополнительный нагреватель. Термический испаритель резистивный. Термический испаритель с кольцевым катодом. Система ионного распыления. Карусель для двухстороннего нанесении.(с переворотом подложек). Свидетель сопротивления. Автономный чиллер (рефрежераторный с воздушным охлаждением). Магнетрон для магнитных материалов. Кварцевый измеритель толщины.
Установка вакуумного напыления M–Ray V2S
Установка вакуумного напыления
- Варианты загрузки изделий: Подложки 60*48мм – 111 шт. Подложки 60*48мм (при двухсторонней обработке) – 70 шт. Подложки ø100мм – 24 шт. Подложки ø150мм – 7 шт. Способ загрузки изделий: ручная загрузка через дверь камеры на носителях.
- Технологические устройства: Магнетрон - до 7 шт. Источник ионов - 2 шт. Нагреватели - 2 шт.
- Измерительные системы: Датчик температуры, установлен на барабане - 1 шт. Датчик сопротивления (свидетель), установлен на барабане - 1 шт.
Установки для напыления выполняют осаждение покрытий, ионно-лучевую, ионно-плазменную, термическую обработку в условиях вакуума разных материалов и изделий. Таким способом проводится нанесение декоративных, отражающих покрытий на пластик, магнетронное хромовое напыление, плазмохимическое осаждение диоксида кремния, нанесение циркония, нитридов титана для получения износостойких покрытий и другие операции.
Приборы для плазмохимического травления реализуют распад молекул реактивных газов посредством ионизации. Продукты распада либо вступают в реакцию с материалом подложки, либо входят в летучие соединения, либо реагируют между собой, либо происходит высаждение на поверхность с образованием нового соединения.
Ключевые преимущества наших установок для вакуумного напыления
- Разнообразие исполнений — оборудование представлено в лабораторном и серийном вариантах под любые масштабы задач.
- Гибкость оснащения — предусмотрена интеграция магнетронных систем, испарителей с электронно-лучевым нагревом, нагревательных узлов, а также механизмов вращения подложкодержателей.
- Широкий спектр материалов — установки позволяют работать с металлическими пленками, оксидными и нитридными соединениями, алмазоподобными покрытиями и материалами для 2D-структур.
- Легкая встройка в автоматизированные линии — оборудование совместимо с современными системами автоматического контроля хода процессов.
- Стабильность при длительной эксплуатации — обеспечивается неизменная воспроизводимость параметров напыления даже в рамках продолжительных технологических циклов.
