В этой категории пока нет товаров
Ключевыми элементами систем электронно-лучевой литографии выступают:
- прецизионное позиционирование подложки, обеспечиваемое контролем ее местоположения с помощью лазерной интерферометрии;
- модуль измерения диаметра пятна; узел определения тока с использованием цилиндра Фарадея, оснащенного интегратором для регистрации токов на уровне пикоампер с целью корректировки дозы;
- высокоскоростной механизм отсечки пучка в моменты перемещения образца;
- специализированное программное обеспечение, управляющее сканированием луча в соответствии с цифровым шаблоном, подготовленным в одной из CAD-систем.
Функционирование литографических установок осуществляется под управлением вычислительной машины, которая задает траекторию движения сфокусированного электронного пучка для формирования рисунка, вносит коррективы, компенсирующие дисторсионные искажения (искривление изображения, обусловленное неодинаковым линейным увеличением на разных участках) и эффекты расширения пучка, а также контролирует положение пластины. Данные о топологии рисунка сохраняются в памяти ЭВМ.
Ключевые преимущества электронно-лучевой литографии
Возможность прямого формирования рисунка при помощи ЭВМ исключает необходимость использования шаблона. Благодаря этому сканирующие системы на электронно-лучевом принципе применимы как в процессе производства шаблонов, так и для прямой экспонировки на пластине. Подобное оборудование отличается высоким пространственным разрешением и точностью совмещения, достигающей порога в 0,1 мкм. В сравнении с фотолитографией и рентгенолитографией, электронолитография выигрывает по разрешающей способности за счет меньшей длины волны используемого излучения.
Даже в тех случаях, где для совмещения шаблона с подложкой и засветки резиста применяется фотолитографический метод, электронно-лучевая литография (ЭЛЛ) при изготовлении шаблонов демонстрирует очевидные преимущества. Данная технология дает великолепное разрешение исходных линий, позволяя повысить качество шаблона. Временные затраты на оцифровку чертежа шаблона и его последующее производство под управлением ЭВМ оказываются существенно ниже, чем длительность процесса фотоуменьшения. Дополнительный плюс заключается в том, что при корректировке чертежа достаточно легко внести изменения в управляющую программу компьютера.
Сферы применения электронно-лучевого оборудования в изготовлении микросхем чрезвычайно обширны. Ключевые ограничения по минимальной ширине проводников и плотности компоновки элементов в первую очередь связаны не с характеристиками самого электронного пучка, а с разрешающими возможностями резиста и достижимой точностью совмещения шаблона с пластиной.
