EN
Описание

ОПИСАНИЕ

  • Диаметр подложки: 100, 150 мм
  • Материал подложки: кремний
  • Тип механизма: двурукий вакуумный адсорбционный робот
  • Способ закрепления подложки: метод вакуумной адсорбции
  • Точность позиционирования: ± 0,1 мм
  • Основная длина волны: i–line 365 нм
  • Освещение: экспонирующая головка с ртутной лампой высокого давления мощностью 350 Вт; ≧ 25 мВт/см2 (I–линия); ≧ 40 мВт/см2 (h–линия)
  • Разрешение: Линии и пробелы на 6-дюймовой круглой пластине.
  • Режим вакуумного контакта: ≥±1,0 мкм.
  • Режим сенсорного контакта: ≤3,0 мкм.
  • Фоторезист: AZ1500. Толщина: 1 мкм
  • Габариты установки (Ш*Г*В): 1600 мм * 1100 мм * 1950 мм
  • Вес: 800 кг

 

Система выравнивания:

Верхняя платформа для выравнивания CCD–матрицы:

  • Диапазон перемещения X: 40 мм (спереди) / 120 мм (сзади).
  • Диапазон перемещения Y: –50 мм (спереди) / +50 мм (сзади).

Нижняя ИК-платформа выравнивания:

  • Точность гравировки на лицевой стороне: ≤±3 σ 1 мкм.
  • Автоматическая компенсация WEC

Смотрите также:

Нажимая на кнопку вы соглашаетесь с условиями политики конфиденциальности