Описание
Характеристики

ОПИСАНИЕ

Комплектация

  • Выравнивающий стол
  • Система ультрафиолетового облучения
  • Раздельные системы полевого микроскопа и сканирования
  • Электрическая система управления
  • Система питания ртутной лампы и рама выравнивающего стола

Рабочий стол для выравнивания
абочий стол для выравнивания обеспечивает обеспечивает перемещение пластины по четырем осям X, Y, Z, θ, при этом в направлениях X, Y и θ используются микроголовки, обеспечивающие точность ручного выравнивания. В направлении Z используются прецизионные линейные шарикоподшипниковые направляющие, моторный привод и трехточечное выравнивание для реализации автоматического управления механизмом микросепарации и снижения дрейфа между маской и пластиной при их разделении.

Система ультрафиолетового экспонирования
В системе УФ-экспонирования используются группы оптических линз, таких как цилиндрические линзы типа «fly-eye» и мощные светособирающие эллипсоидные рефлекторы, для формирования многоточечных источников света. После многократного прохождения света через полевой объектив и конденсаторную линзу многоточечные источники света формируют несколько лучей света, которые равномерно ложатся на рабочую поверхность экспонирования, при этом на рабочую поверхность падает ультрафиолетовый свет с длиной волны 365 нм, высокой светоотдачей и равномерным распределением интенсивности света.

Система микроскопического сканирования
Для приведения микроскопической системы в двумерное перемещение относительно рабочего стола с целью микроскопического наблюдения и сканирования, используется электропривод.

Электрическая система управления
Для обеспечения электрического управления и обработки изображений применен промышленный персональный компьютер, который при этом для удобства работы имеет китайский интерфейс и обеспечивает вызов подсказок о состоянии оборудования.

Источник питания ртутной лампы
Источник электропитания ртутной лампы сверхвысокого напряжения постоянной мощности на 250 Вт демонстрирует рабочее напряжение и ток ртутной лампы. Он характеризуется простотой запуска и высокой надежностью.

Технические характеристики

Применимые размеры пластины 76 мм
Применимые размеры маски 3 дюйма х 4 дюйма
Режим экспонирования Без зазора - мягкий контакт, без зазора - жесткий контакт, вакуумное копирование
Перемещение по рабочему столу
Ось X ±5 мм
Ось Y ±5 мм
Ось Z 8 мм
Ось θ ±5°
Точность выравнивания ±1,5 мкм
Зона экспонирования Ø110 мм
Разрешение экспонирования 1,5 мкм (толщина ≤ 1 мкм, положительный фоторезист, вакуумный контакт)
Интенсивность светового излучения ≥ 25 мВт/см2
УФ-лампа ≥ 40 мВт/см2при 365
Неравномерность экспонирования ±3%
Продолжительность экспонирования 0 ~ 999,9 с
Общая мощность установки 1,5 кВт
Габаритные размеры оборудования 1300 (длина) × 1100 (ширина) × 1450 (высота)
Масса 300 кг
ФОС в подвале