Установка вакуумного напыления M–Ray V2S

Установка двухстороннего магнетронного напыления используется для нанесения определенных материалов и обеспечения высокой производительности. Она позволяет создавать условия для получения плазмы с высокими показателями плотности.

Принцип действия заключается в физическом распылении катода. Процесс ускоряется за счет ионов, присутствующих в рабочем газе, которые осуществляют бомбардировку покрытия мишени за счет воздействия прикладываемого потенциала с отрицательным значением. Благодаря устройствам можно обеспечить нанесение равномерных покрытий даже на поверхности с большим форматом. Таким способом декорируют дисплеи, стекла, солнечные элементы, рулонные, пластиковые материалы. Предварительно проводят очистку поверхностей. На них наносятся диэлектрические покрытия в виде карбидов, нитридов и оксидов с использованием инертных газов в реактивной среде проводящих материалов. Это дает возможность образовать пленку на поверхности мишени и обеспечить процесс осаждения.

Преимущества:

• Возможно распыление таких материалов, как резистивные сплавы, Cu, Cr, Ni, Al и т.п.

• Прямоугольная дверь большого размера для удобства загрузки–выгрузки носителей.

• Гидроподъёмный механизм поднятия двери вакуумной камеры над плитой–основанием.

• Два комплекта блоков питания магнетрона и ионного источника и блок подачи смещения на барабан подложкодержатель в предельном варианте комплектации.

• Возможно размещение нестандартных узлов нанесения или травления пленок, дополнительных нагревателей, измерителей и т.д.

• Возможно применение планетарного механизма вращения цилиндрических подложек с диаметром изделий до 100 мм.