ОПИСАНИЕ
Особенности установки:
Основой установок ЭСТОХОРС является уникальный источник Groovy ICP, который объединяет преимущества базовых источников плазмы, нивелируя недостатки. ЭСТОХОРС Groovy ICP позволяет реализовывать все плазмохимические процессы в единой базовой процессной камере, меняя лишь внутреннюю оснастку. Единая конфигурация реакторов позволяет создать полную линейку плазмохимических реакторов и достичь высокой экономической эффективности машиностроительного производства и универсальности технологий. Уникальность ЭСТОХОРС Groovy ICP в способности независимо и одновременно задавать физические и химические условия процесса в радиальном направлении. Это единственный в мире промышленный источник, позволяющий одновременно осуществлять локальный контроль плотности плазмы и ее химического состава по радиусу пластины. Технологи могут осуществлять процессы при ранее не достижимых сочетаниях параметров: градиент скорости процесса по радиусу пластины можно менять при неизменных внешних параметрах разряда. Таким образом, достигается максимально широкое технологическое окно параметров и простота достижения предельной равномерности процесса по пластине. ЭСТОХОРС Groovy ICP позволяет задавать произвольно вогнутые и выпуклые распределения скорости процесса по пластине. ЭСТОХОРС Groovy ICP в варианте отдельно стоящей системы комплектуется различными вакуумными загрузчиками пластин, включая кассетные. Минимальный вариант – ручной загрузочный шлюз, максимальный – автоматическая кластерная система с одной, двумя или тремя ПК и фронтальным SMIF модулем.
Плазмохимическое травление слоев
Одним из методов обработки в условиях различных промышленных предприятий является плазмохимическое травление слоев, которое состоит из ряда технологических параметров, позволяющих влиять на скорость процесса и получение поверхности с определенными характеристиками и качеством. Чтобы купить такое оборудование, компания НПП «ЭСТО» предлагает обратиться к опытным специалистам для уточнения всех интересующих вопросов.
Суть процесса кроется в том что, наблюдается возбуждение разряда в активных газах, посредством чего происходит образование химически активных частиц – радикалов и ионов. При их взаимодействии с поверхностью возникают особые летучие соединения, удаляемые из зоны реакции посредством использования системы откачки. Сравнительно с ионным методом в данном случае удается достичь повышенной селективности, то есть избирательности воздействия. В результате убирается поверхностный слой материалов благодаря химической реакции между активными частицами и атомами вещества, подвергаемого процедуре.
К плазменным способам относится сухое травление, которое предназначено для снятия слоя поверхности с целью подготовки для дальнейших работ. Вы можете купить оборудование для выполнения операций в условиях промышленных предприятий, а компания НПП «ЭСТО» сделает поставку в короткие сроки.
Главные преимущества технологии заключаются в безвредности реагентов. Они не оказывают негативного влияния и не подвергаются воспламенению. Процесс может быть частично или полностью автоматизированным. Также в одном реакционном объеме может совмещаться несколько технологических операций. Во время их проведения будет намного меньше загрязнений, попадающих на поверхность. Сравнительно с жидкостным способом достигается более высокая разрешающая способность. Процесс не зависит в существенной степени от толщины фоторезиста. Это имеет значение, когда необходимо проводить обработку в несколько этапов в связи с отсутствием прочих способов установления момента окончания воздействия на поверхность материала.
Технические характеристики
| 1. Вакуумная система | |
| Высоковакуумный насос | Турбомолекулярный |
| Форвакуумный насос | Сухой двухступенчатый безмасляный агрегат |
| Система стабилизации рабочего давления (10-2 – 200 Па) | Регулировка скоростью откачки |
| Предельное остаточное давление в рабочей камере | 2х10-4 Па |
| Время достижения остаточного давления. (После профилактической чистки камеры и одного тренировочного цикла откачки) | 10 мин |
| Стартовое давление в рабочей камере | 5х10-3 Па |
| Время достижения стартового давления | 5 мин |
| Расход подаваемых в камеру рабочих газов по одному каналу, л/час | 0 ÷ 3,6 л/ч |
| Количество автоматических каналов газонапуска | 2 шт |
| Время подготовки вакуумной системы к работе | 5 мин |
| 2. Параметры технологических устройств Генератор плазмы высокой плотности |
|
| Частота ВЧ-генератора | 13,56 МГц |
| ВЧ мощность, подаваемая на антенну генератора плазмы: центральная антенна периферийная антенна |
до 1000 Вт до 2000 Вт |
| Охлаждение | Водяное |
| Максимальная плотность плазмы (с использованием магнитной резонансной системой) | 1012 см-3 |
| Катушки индуктивности | 2 шт |
| 3. Стол рабочий | |
| Напряжение смещения | до 1000 В |
| Подаваемая мощность | до 5000 Вт |
| Частота напряжения смещения | 4 МГц |
| Охлаждение | Теплоноситель (Galden) и гелиевым теплоотводом |
| Механизм перегрузки изделия | Трехточечный на диаметре 152 мм |
| 4. Массо-габаритые параметры Агрегат технологический |
|
| Габариты Д*Ш*В | 2290х1012х1620 мм |
| Масса | 900 кг |
| 5. Установка в целом | |
| Масса | До 1650 кг |
| Площадь для размещения | 25 м2 |
