Вопросы влияния технологических режимов на свойства резистивных плёнок стали ключевой темой доклада представителя АО «НПП «ЭСТО» на 33-й Всероссийской межвузовской научно-технической конференции «Микроэлектроника и информатика-2026», которая прошла 23–24 апреля в НИУ МИЭТ.
В рамках секции «Материалы микро- и наноэлектроники» был представлен анализ влияния параметров осаждения и термической обработки на стабильность и воспроизводимость характеристик тонкоплёночных резисторов. Результаты исследования могут быть использованы для оптимизации производственных процессов при изготовлении высокоточных электронных компонентов.
Конференция собрала более 200 участников из вузов и научных центров России. Для АО «НПП «ЭСТО» участие в таких мероприятиях — возможность обменяться опытом с академическим сообществом и укрепить связи между наукой и производством.
Благодарим НИУ МИЭТ за приглашение и безупречную организацию мероприятия. Для нас важно делиться опытом со студентами и молодыми учёными — именно так растёт новое поколение инженеров и исследователей.
