Установки вакуумного напыления

Установки для напыления  выполняют осаждение покрытий, ионно-лучевую, ионно-плазменную, термическую обработку в условиях вакуума разных материалов и изделий. Таким способом проводится нанесение декоративных, отражающих покрытий на пластик, магнетронное хромовое напыление, плазмохимическое осаждение диоксида кремния, нанесение циркония, нитридов титана для получения износостойких покрытий и другие операции.
Приборы для плазмохимического травления реализуют распад молекул реактивных газов посредством ионизации. Продукты распада либо вступают в реакцию с материалом подложки, либо входят в летучие соединения, либо реагируют между собой, либо происходит высаждение на поверхность с образованием нового соединения.

• Разнообразие исполнений — оборудование представлено в лабораторном и серийном вариантах под любые масштабы задач.
• Гибкость оснащения — предусмотрена интеграция магнетронных систем, испарителей с электронно-лучевым нагревом, нагревательных узлов, а также механизмов вращения подложкодержателей.
• Широкий спектр материалов — установки позволяют работать с металлическими пленками, оксидными и нитридными соединениями, алмазоподобными покрытиями и материалами для 2D-структур.
• Легкая встройка в автоматизированные линии — оборудование совместимо с современными системами автоматического контроля хода процессов.
• Стабильность при длительной эксплуатации — обеспечивается неизменная воспроизводимость параметров напыления даже в рамках продолжительных технологических циклов.