Вакуумное оборудование

Плазмохимическое травление
Xors 200A
Вакуумное напыление
M-Ray H1S
Вакуумное напыление
M-Ray V1S
Вакуумное напыление
M-Ray V2S
Вакуумное напыление
M-Ray VP

В данном разделе представлены базовые модели установок, оборудование может быть технически модифицировано под различные задачи как в сторону увеличения опций и степени автоматизации, так и в сторону их уменьшения, согласно техническому заданию Заказчика. Вакуумное оборудование НПП ЭСТО может использоваться в лабораториях, на БИС, ГИС, МЭМС, НЭМС производствах, в оптоэлектронике, силовой и СВЧ электронике.

При помощи этих установок можно производить следующие технологические процессы:

плазмохимическое травление критических слоев материалов в полупроводниковых производствах
СБИС уровня 65-28 нм;
формирование металлизации для разных интегральных схем;
нанесение резистивных и проводящих покрытий;
нанесение многокомпонентных составов;
формирование необходимого рисунка с применением взрывной литографии;
вакуумное напыление металлов и прочее.
Наше производство позволяет оснастить типовой участок всем необходимым технологическим вакуумным оборудованием. У нас вы найдете установки для магнетронного, ионно-лучевого напыления, ионного и плазмохимического травления. Все станки выполнены при строгом соблюдении стандартов качества, надежны и удобны в эксплуатации. Наше конструкторское бюро разработает установку под Ваши конкретные задачи, а технологический центр отработает технологию получения готовой продукции.