Время работы
Главная » Каталог » Зарубежное оборудование » Полуавтоматическая установка для равномерной сушки фоторезиста MC8-1C1HP
Полуавтоматическая установка для равномерной сушки фоторезиста

МС8–1C1HP


Отправить запрос

ОПИСАНИЕ

Подходит для пластин размером 200 мм и меньше
Дополнительный корпус из коррозионностойкого полипропилена или нержавеющей стали
Сенсорный интерфейс, отображение рабочего состояния оборудования в режиме реального времени
Дополнительные функции, такие как удаление кромок, обратная промывка и контроль температуры фоторезиста

Параметры:

  • Конфигурация агрегата: COT+HP
  • Размер подложки: 200 мм
  • Трубопровод фоторезиста: 2 канала
  • Применимая вязкость фоторезиста: 0–1000CP (дополнительная система подачи жидкости для фоторезиста с высокой вязкостью)
  • Диапазон скоростей вращения: 20–500 об/мин
  • Диапазон ускорения: 20–20000 об/мин/с
  • Точность скорости: ±7 об/мин
  • Материал CHUCK: микропористая керамика/PPS
  • Равномерность толщины пленки: ±3% (3 мм с одной стороны края)
  • Диапазон температур: 50–200° С
  • Равномерность температуры: 800 кг
  • Программа: ≤100 групп, каждая группа ≤100 шагов