Время работы
Установка очистки

ЕР200

Установка предназначена для автоматической очистки, отмывки и сушки фотошаблонов полупроводниковых пластин после дисковой резки.

Отправить запрос

описание

Ручная загрузка и выгрузка полупроводниковых пластин в спутниках; автоматический процесс очистки пластин после дисковой резки
Компактный настольный вариант. Запатентованная конструкция камеры очистки имеет ряд преимуществ перед зарубежными аналогами
Эффективная отмывка мелко-распылённой струёй деионизованной воды под высоким давлением
Дополнительная сушка подогретым воздухом в рабочей зоне благодаря встроенному нагревателю в корпус сопла
Функция очистки RINSE для очистки полупроводниковых пластин, требующих применение специальных моющих растворов
Входной регулятор давления воздуха с манометром для подключения к цеховой вентиляции и встроенный вакуумный эжектор
Возможность эксплуатации установки без внешней вытяжной вентиляции для лабораторий и малых производств
Панель ЖК-дисплея с удобной ручкой-джойстиком для ввода рабочих параметров; трёхцветная сигнальная лампа со звуковым сигналом
Несколько программ очистки и память хранения до 50 технологических карт
Несложное устройство, простое управление, не требует специального обучения персонала
Конфигурация рабочего стола под требования заказчика
Европейские стандарты электробезопасности, знак СЕ

Характеристики:

  • Максимальный диаметр пластин: 200 мм
  • Скорость центрифуги: 0–3000 об/мин
  • Время мойки/сушки: 0–999 с
  • Давление воздуха, не более: 0,5 МПа
  • Давление N2, не более: 0,5 МПа
  • Давление деионизованной воды: 0,2 МПа
  • Расход воды, не более: 0,8 л/мин
  • Температура нагревателя: 25–70 °C
  • Функции контроля: вода, воздух, N2, вакуум, T°С нагреватель, центрифуга, защитная крышка
  • Электропитание: ~ 110/220 В, 50–60 Гц, 0,3 КВт, однофазная
  • Габаритные размеры: 475(W)х527(D)х388(H) мм
  • Вес: 62 кг