• Диаметр подложки: 100, 150 мм
• Материал подложки: кремний
• Тип механизма: двурукий вакуумный адсорбционный робот
• Способ закрепления подложки: метод вакуумной адсорбции
• Точность позиционирования: ± 0,1 мм
• Основная длина волны: i–line 365 нм
• Освещение: экспонирующая головка с ртутной лампой высокого давления мощностью 350 Вт; ≧ 25 мВт/см2 (I–линия); ≧ 40 мВт/см2 (h–линия) 

• Разрешение: Линии и пробелы на 6-дюймовой круглой пластине. 

1. Режим вакуумного контакта: ≥±1,0 мкм. 
2. Режим сенсорного контакта: ≤3,0 мкм. 
3. Фоторезист: AZ1500. Толщина: 1 мкм 

• Система выравнивания: 

Верхняя платформа для выравнивания CCD–матрицы: 

1. Диапазон перемещения X: 40 мм (спереди) / 120 мм (сзади). 
2. Диапазон перемещения Y: –50 мм (спереди) / +50 мм (сзади). 

Нижняя ИК-платформа выравнивания: 

1. Точность гравировки на лицевой стороне: ≤±3 σ 1 мкм.
2.  Автоматическая компенсация WEC 

• Габариты установки: 1600 мм (Ш)*1100 мм (Г)*1950 мм (В)
• Вес: 800 кг