Время работы
Установка вакуумного напыления

M-Ray V2S

Отправить запрос

Предназначена для двустороннего магнетронного напыления на керамические, кремниевые и любые плоские (толщина не более 30 мм) подложки размером до ∅150 мм (максимальные размеры обрабатываемых изделий 150×350 мм). Установка комплектуется 7-ю магнетронами – 4 шт. внутри барабана и 3 шт. снаружи в специальных дверях. Мишени магнетронов располагаются вертикально, материал напыляется на внутреннюю сторону носителей, вращающихся на барабане. Установка комплектуется магнетронами для распыления любых материалов, например, резистивных сплавов, Cu, Cr, Ni, Al и т.п.

Описание:

Вакуумная камера установки снабжена прямоугольной дверью большого размера для удобства загрузки-выгрузки носителей. Для обслуживания камеры она поднимается над плитой-основанием с помощью гидроподъемника.
Установка в предельном варианте комплектации имеет два комплекта блоков питания магнетрона и ионного источника и блок подачи смещения на барабан подложкодержатель.
Возможно размещение нестандартных узлов нанесения или травления пленок, дополнительных нагревателей, измерителей и т.д., если позволяют габариты камеры.
Возможно применение планетарного механизма вращения цилиндрических подложек (ось вращения вертикальная) с диаметром изделий до 100 мм.

Варианты загрузки изделий:

  • подложек 60*48мм - 111 шт.
  • подложек 60*48мм (при двухсторонней обработке) - 70 шт.
  • подложек ø100мм - 24 шт.
  • подложек ø150мм - 7 шт.
  • Способ загрузки изделий: ручная загрузка через дверь камеры на носителях

Технологические устройства:

  • Магнетрон до 7 шт.
  • Источник ионов 2 шт.
  • Нагреватели 2 шт.

Измерительные системы:

  • Датчик температуры, установлен на барабане 1 шт.
  • Датчик сопротивления (свидетель), установлен на барабане 1 шт.

Вакуумная система:

  • Высоковакуумный насос - криогенный 
  • Форвакуумный насос - спиральный безмасляный 
  • Предельное остаточное давление в рабочей камере -  8х10-4 Па
  • Время достижения остаточного давления (После профилактической чистки камеры и одного тренировочного цикла откачки) - 30 мин
  • Стартовое давление в рабочей камере -  5х10-3 Па
  • Время достижения стартового давления - 10 мин
  • Расход подаваемых в камеру рабочих газов по одному каналу - 0 ÷ 9 л/час
  • Количество автоматических каналов газонапуска до 3 шт.
  • Время подготовки вакуумной системы к работе - 110 мин

Установка двухстороннего магнетронного напыления

Для нанесения определенных материалов и обеспечения высокой производительности используется установка двухстороннего магнетронного напыления, позволяющая создавать условия для получения плазмы с высокими показателями плотности. 


Принцип действия заключается в физическом распылении катода. Процесс ускоряется за счет ионов, присутствующих в рабочем газе, которые осуществляют бомбардировку покрытия мишени за счет воздействия прикладываемого потенциала с отрицательным значением. Благодаря устройствам можно обеспечить нанесение равномерных покрытий даже на поверхности с большим форматом. Таким способом декорируют дисплеи, стекла, солнечные элементы, рулонные, пластиковые материалы. Предварительно проводят очистку поверхностей. На них наносятся диэлектрические покрытия в виде карбидов, нитридов и оксидов с использованием инертных газов в реактивной среде проводящих материалов. Это дает возможность образовать пленку на поверхности мишени и обеспечить процесс осаждения.