Verification: 0c3f013007902d6e
Главная » Каталог » Вакуумное напыление » Установка вакуумного напыления M-RAY V2S
Установка вакуумного напыления

M–Ray V2S

Предназначена для двустороннего магнетронного напыления на керамические, кремниевые и любые плоские (толщина не более 30 мм) подложки размером до ∅150 мм (максимальные размеры обрабатываемых изделий 150×350 мм). Установка комплектуется 7-ю магнетронами – 4 шт. внутри барабана и 3 шт. снаружи в специальных дверях. Мишени магнетронов располагаются вертикально, материал напыляется на внутреннюю сторону носителей, вращающихся на барабане.

Отправить запрос
План камеры
Габаритный чертёж
Габаритный чертёж

ОПИСАНИЕ

Возможно распыление таких материалов, как резистивные сплавы, Cu, Cr, Ni, Al и т.п.
Прямоугольная дверь большого размера для удобства загрузки–выгрузки носителей.
Гидроподъёмный механизм поднятия двери вакуумной камеры над плитой–основанием.
Два комплекта блоков питания магнетрона и ионного источника и блок подачи смещения на барабан подложкодержатель в предельном варианте комплектации.
Возможно размещение нестандартных узлов нанесения или травления пленок, дополнительных нагревателей, измерителей и т.д.
Возможно применение планетарного механизма вращения цилиндрических подложек с диаметром изделий до 100 мм.

Варианты загрузки изделий:

  • подложек 60*48мм – 111 шт.
  • подложек 60*48мм (при двухсторонней обработке) – 70 шт.
  • подложек ø100мм – 24 шт.
  • подложек ø150мм – 7 шт.
  • Способ загрузки изделий: ручная загрузка через дверь камеры на носителях

Технологические устройства:

  • Магнетрон до 7 шт.
  • Источник ионов 2 шт.
  • Нагреватели 2 шт.

Измерительные системы:

  • Датчик температуры, установлен на барабане 1 шт.
  • Датчик сопротивления (свидетель), установлен на барабане 1 шт.

Вакуумная система:

  • Высоковакуумный насос: криогенный 
  • Форвакуумный насос: спиральный безмасляный 
  • Предельное остаточное давление в рабочей камере:  8х10-4 Па
  • Время достижения остаточного давления (после профилактической чистки камеры и одного тренировочного цикла откачки): 30 мин
  • Стартовое давление в рабочей камере:  5х10-3 Па
  • Время достижения стартового давления: 10 мин
  • Расход подаваемых в камеру рабочих газов по одному каналу: 0 ÷ 9 л/час
  • Количество автоматических каналов газонапуска: до 3 шт.
  • Время подготовки вакуумной системы к работе: 110 мин

Установка двухстороннего магнетронного напыления

Установка двухстороннего магнетронного напыления используется для нанесения определенных материалов и обеспечения высокой производительности. Она позволяет создавать условия для получения плазмы с высокими показателями плотности. 


Принцип действия заключается в физическом распылении катода. Процесс ускоряется за счет ионов, присутствующих в рабочем газе, которые осуществляют бомбардировку покрытия мишени за счет воздействия прикладываемого потенциала с отрицательным значением. Благодаря устройствам можно обеспечить нанесение равномерных покрытий даже на поверхности с большим форматом. Таким способом декорируют дисплеи, стекла, солнечные элементы, рулонные, пластиковые материалы. Предварительно проводят очистку поверхностей. На них наносятся диэлектрические покрытия в виде карбидов, нитридов и оксидов с использованием инертных газов в реактивной среде проводящих материалов. Это дает возможность образовать пленку на поверхности мишени и обеспечить процесс осаждения.

Пожаловаться на контент cайта в Битрикс24