Время работы
Установка вакуумного напыления

M-Ray V1S

Отправить запрос

Предназначена для магнетронного напыления на керамические, кремниевые и любые плоские (толщина не более 30 мм) подложки размером до ∅150 мм, (максимальные размеры обрабатываемых изделий 150×350 мм). Магнетроны (от 1 до 4-х шт.) устанавливаются внутри барабана. Мишени магнетронов располагаются вертикально, материал напыляется на внутреннюю сторону носителей, вращающихся на барабане. Установка комплектуется магнетронами от одного до четырёх штук для распыления любых материалов, например, резистивные сплавы, Cu, Cr, Ni, Al и т.п.

Описание:

Установка имеет цилиндрическую камеру, внутри которой находится вращающийся барабан, предназначенный для загрузки на него обрабатываемых изделий. Внутри барабана установлены 4 магнетронных распылителя, источник ионов и два нагревателя. Для отпыливания мишеней магнетронных распылителей имеется двухпозиционная заслонка, которая попарно закрывает магнетроны. Для удобства обслуживания внутрикамерного пространства, камера поднимается вверх с помощью гидроподъемника и поворачивается на 180 градусов.
На установке используется система охлаждения с замкнутым внутренним контуром, вода в котором охлаждается внешней оборотной водой через теплообменник. Температура воды автоматически поддерживается немного выше температуры окружающего воздуха, что позволяет избежать конденсации атмосферной влаги на элементах конструкции. Внешняя оборотная вода при отсутствии тепловой нагрузки не расходуется.

Варианты загрузки изделий:

  • подложек 60*48мм - 111 шт.
  • подложек ø100мм - 28 шт.
  • подложек ø150мм - 7 шт.
  • Способ загрузки изделий: ручная загрузка через дверь камеры на носителях

Технологические устройства:

  1. Магнетрон до 4 шт.
  2. Источник ионов 1 шт.
  3. Нагреватели 2 шт. 

Измерительные системы:  

  • Датчик температуры, установлен на барабане 1 шт.
  • Датчик сопротивления (свидетель), установлен на барабане 1 шт.

Установка магнетронного напыления

Для нанесения тонких пленок на подложку посредством катодного распыления мишени используется установка магнетронного напыления, являющаяся источником генерации СВЧ-колебаний. Компания НПП «ЭСТО» предоставляет возможность купить данное оборудование и воспользоваться помощью специалистов в выборе оптимальных параметров для решения конкретных поставленных задач.


Такая технология широко применяется с целью многослойного нанесения металлов и диэлектриков на дисперсные и твердые образцы за один цикл. Также она позволяет осуществлять серийное производство высокотехнологичной продукции, успешно решать различные производственные и исследовательские задачи. Во время распыления поверхность катода бомбардируется ионами, распыляющими ее. За счет того что распыленное вещество попадает на мишень и затем осаждается на подложку, оно формирует плотную пленку. Процесс может выполняться в автоматическом режиме с сохранением и воспроизведением последовательности технологических процессов.


Мы предлагаем воспользоваться установкой магнетронного напыления для решения ваших производственных задач на предприятии, позвоните и обсудите детали сотрудничества с нашими специалистами, уточнения возникающих вопросов касательно технических характеристик оборудования, его функциональных показателей и конкретной сферы применения.

Установка ионно-лучевого напыления

С целью осаждения тонких пленок посредством использования пучка ионов с положительным зарядом применяется установка ионно-лучевого напыления, функционирующая в условиях вакуума. 


Благодаря особенностям оборудования удается осуществлять независимый контроль над потоками ионов и энергией пучка. Для этого процесса характерно низкое давление. В результате можно работать с различными материалами, при этом стехиометрия будет хорошо контролируемой. Еще одно несомненное преимущество заключается в сокращении числа посторонних включений в осаждаемых пленках. Оборудование помогает проводить осаждение высококачественных оптических материалов на очень гладких поверхностях. Есть возможность нанесения покрытия на термочувствительную подложку. Также можно выполнять реактивные и нереактивные операции в одной и той же камере без необходимости в перенастройке. С помощью данной технологии удается получать покрытия без эффекта дрейфа под воздействием разных внешних условий. Они проявляют стойкость ко многим факторам.