Установка плазменной очистки
CY–P10L–1000W
Установка используется для неразрушающей очистки. В качестве чистящей среды используется низкое давление воздуха. Устройство оснащено механическим вакуумным насосом.
ОПИСАНИЕ
- Материал камеры: кварцевое термостойкое стекло
- Кварцевое термостойкое стекло: диаметр 220 мм, длина 350 мм
- Источник питания: AC220V
- Рабочий ток: рабочий ток всей машины не должен превышать 1,2А (исключая вакуумный насос)
- Источник питания: регулируется ручкой, от 0 до 1000 Вт (независимый источник питания, с индикацией мощности и дисплеем отражения с точностью до 1 Вт, автоматический и ручной).
- Частота: 13,56 МГц (смещение менее 0,2 кГц)
- Газовый канал: 2 канала
- Диапазон каналов: 0~100 мл
- Диапазон каналов B: 0~100 мл
- Управление технологическим процессом: интерфейс PLC; время автоматической и ручной очистки: 1–9999 секунд; регулируемая мощность: 11–1000 Вт; точность регулировки до 1 Вт; размер внутренней полости: диаметр 220 × глубина 350 мм
- Внешние габариты: внешние габариты
- Вес: 80 кг (включая упаковку)
- Вакуумный насос: 2,2 л/с
- Температура вакуумной камеры: –10°C -- 40°C
- Способ охлаждения: принудительное воздушное охлаждение