Время работы
Установка вакуумного напыления

M-Ray H1S

Отправить запрос

Предназначена для магнетронного, термического и ионно-лучевого напыления на керамические, кремниевые, ситаловые и другие плоские (толщина не более 30 мм) подложки размером до ∅100 мм. Мишени на магнетронах располагаются горизонтально. Над ними располагается вращающаяся карусель, на которой размещены носители с закрепленными подложками. Обработка изделий производится в горизонтальной плоскости, материал распыляется снизу вверх.

Описание:

Установка вакуумно-технологическая с высоковакуумной системой на базе криогенного насоса и спирального форвакуумного насоса с рабочей камерой с шестью позициями для технологических устройств, горизонтальной каруселью с датчиком температуры и возможностью точного позиционирования, трехканальной системой газонапуска.
Установлены технологические устройства: четыре магнетрона с мишенью диаметром 100мм с индивидуальными заслонками, источник ионов, нагреватель.
Шкаф питания и управления со встроенным чиллером вода-вода. Система автоматического управления на основе Windows и SCADA. Система протоколирования технологического процесса, система удаленного доступа.

Варианты загрузки изделий:

  • Односторонняя обработка подложек 60*48мм - 20 шт.
  • Односторонняя обработка подложек ø100мм - 8 шт.
  • Двухсторонняя обработка подложек 60*48мм - 20шт.
  • Односторонняя обработка с использованием устройства переворота 60*48мм - 40 шт.
  • Способ загрузки изделий: ручная загрузка через дверь камеры непосредственно на диск или на носителях

Технологические устройства (количество гнезд для установки - 5):

  • Магнетрон до 5 шт.
  • Испаритель термический с резистивным нагревом до 5 шт.
  • Испаритель термический с электронным нагревом до 5 шт.
  • Ионно-лучевой распылитель (занимает два гнезда) до 2 шт.
  • Источник ионов до 5 шт.

Опции:

  • Дополнительный нагреватель
  • Термический испаритель резистивный
  • Термический испаритель с кольцевым катодом.
  • Система ионного распыления.
  • Карусель для двухстороннего нанесении.(с переворотом подложек)
  • Свидетель сопротивления.
  • Автономный чиллер (рефрежераторный с воздушным охлаждением)
  • Магнетрон для магнитных материалов.
  • Кварцевый измеритель толщины.


Установка для ионного травления

Для обработки поверхности материала ионами плазмы используется установка для ионного травления, которая помогает удалять с нее определенный слой посредством кинетической энергии, получаемой от воздействия инертных газов. Мы предоставляем возможность заказать оборудование на доступных условиях, при этом компания НПП «ЭСТО» выполнит поставку в сжатые сроки.

Процесс влияния частиц на поверхность называют физическим распылением. Ионы в таком случае передают кинетическую энергию атомам, вследствие чего происходит их выбивание. Из технологических параметров наиболее важным является масса ионов газа, поскольку именно от них зависит скорость распыления. Также важен показатель давления в газоразрядной камере. Для этого способа характерно то, что процесс происходит именно в том направлении, в котором осуществляется воздействие. Иногда при работе используют маску, где есть окна, позволяющие создавать отдельные вытравленные зоны. Это является важным достоинством сравнительно с жидкостным способом. Однако главное назначение методики заключается в очистке от загрязнений.
Чтобы приобрести установку для ионного травления и уточнить ее технические характеристики, позвоните и задайте возникающие вопросы специалистам, которые помогут определиться с выбором.

Установка ионно-лучевого напыления

С целью осаждения тонких пленок посредством использования пучка ионов с положительным зарядом применяется установка ионно-лучевого напыления, функционирующая в условиях вакуума. 

Благодаря особенностям оборудования удается осуществлять независимый контроль над потоками ионов и энергией пучка. Для этого процесса характерно низкое давление. В результате можно работать с различными материалами, при этом стехиометрия будет хорошо контролируемой. Еще одно несомненное преимущество заключается в сокращении числа посторонних включений в осаждаемых пленках. Оборудование помогает проводить осаждение высококачественных оптических материалов на очень гладких поверхностях. Есть возможность нанесения покрытия на термочувствительную подложку. Также можно выполнять реактивные и нереактивные операции в одной и той же камере без необходимости в перенастройке. С помощью данной технологии удается получать покрытия без эффекта дрейфа под воздействием разных внешних условий. Они проявляют стойкость ко многим факторам.