Роман Кубраков из АО «НПП «ЭСТО» представил прорывную разработку на семинаре в Томске 27 ноября 2...
Роман Кубраков из АО «НПП «ЭСТО» представил прорывную разработку на семинаре в Томске
27 ноября 2025 года в Томске состоялся научно-технический семинар «Актуальные технологии и оборудование для литографии и обработки фоторезистов», в рамках которого Роман Кубраков, инженер АО «Научно-производственное предприятие «ЭСТО», выступил с докладом о ключевых этапах создания отечественной установки электронно-лучевой литографии.
Главной темой выступления стала презентация российской установки, способной воспроизводить микроструктуры размером до 150 нанометров — важнейшего этапа в обеспечении технологического суверенитета страны в области микроэлектроники.
По словам Романа Кубракова, разработка российской электронно-лучевой литографической установки вышла на завершающий этап: технический проект утверждён вся конструкторская документация готова. Инженерами предприятия уже собраны и прошли успешные испытания макеты ключевых компонентов, а параметры электронно-оптической системы подтверждены детальным моделированием.
Впереди у команды «ЭСТО» — ещё более амбициозные цели:
- повышение разрешающей способности до 90 нм;
- внедрение системы автоматической перегрузки SMIF-контейнеров;
- обеспечение полного соответствия требованиям современных стандартов кристального производства.
Выступление Романа Кубракова вызвало большой интерес у участников семинара — представителей научного сообщества, промышленных предприятий и органов государственной поддержки высокотехнологичных отраслей. Достижения АО «НПП «ЭСТО» подчеркивают растущий потенциал российской микроэлектронной отрасли и её способность создавать конкурентоспособные технологические решения на мировом уровне.
27 ноября 2025 года в Томске состоялся научно-технический семинар «Актуальные технологии и оборудование для литографии и обработки фоторезистов», в рамках которого Роман Кубраков, инженер АО «Научно-производственное предприятие «ЭСТО», выступил с докладом о ключевых этапах создания отечественной установки электронно-лучевой литографии.
Главной темой выступления стала презентация российской установки, способной воспроизводить микроструктуры размером до 150 нанометров — важнейшего этапа в обеспечении технологического суверенитета страны в области микроэлектроники.
По словам Романа Кубракова, разработка российской электронно-лучевой литографической установки вышла на завершающий этап: технический проект утверждён вся конструкторская документация готова. Инженерами предприятия уже собраны и прошли успешные испытания макеты ключевых компонентов, а параметры электронно-оптической системы подтверждены детальным моделированием.
Впереди у команды «ЭСТО» — ещё более амбициозные цели:
- повышение разрешающей способности до 90 нм;
- внедрение системы автоматической перегрузки SMIF-контейнеров;
- обеспечение полного соответствия требованиям современных стандартов кристального производства.
Выступление Романа Кубракова вызвало большой интерес у участников семинара — представителей научного сообщества, промышленных предприятий и органов государственной поддержки высокотехнологичных отраслей. Достижения АО «НПП «ЭСТО» подчеркивают растущий потенциал российской микроэлектронной отрасли и её способность создавать конкурентоспособные технологические решения на мировом уровне.