С 23 по 28 сентября в Университете «Сириус» состоялся юбилейный Российский форум «Микроэлектроника 2024». Мероприятие вошло в план мероприятий Десятилетия науки и технологий, объявленного Указом Президента РФ в целях усиления роли науки и технологий в решении важнейших задач развития общества и страны.

В этом году Форум принял гостей в десятый раз. В первый день мероприятия состоялось Пленарное заседание «Состояние и перспективы развития российской микроэлектронной отрасли», в котором приняли участие руководители Федеральных органов исполнительной власти. Спикерами дискуссии выступили Г. Я. Красников, Д. В. Мантуров, А. А. Алиханов, В. Н. Фальков, М. И. Шадаев и Г. О. Греф. Во время заседания обсудили ряд вопросов, касающихся налоговых льгот для предприятий отрасли, авансирования, подготовки кадров, механизмов финансирования отраслевых проектов и других актуальных для отрасли тем.

Специалисты АО «НПП «ЭСТО» приняли активное участие в конференции, представив свои доклады на секции, посвящённой достижениям и перспективным проектам в области специального технологического оборудования.

Один из докладов был посвящён исследованию однородности температуры подложки в установке вакуумно-плазменного травления. Процессы вакуумно-плазменного травления широко применяются как при финишной очистке обрабатываемых изделий и планаризации их поверхностей, так и при удалении резиста и формировании элементов микро- и наноэлектроники. При создании элементов микро- и наноэлектроники количество процессов плазменного травления непрерывно растёт. Таким образом, оборудование для вакуумно-плазменного травления составляет всё большую долю от общих затрат на оснащение производственной линии. Развитие полупроводниковых технологий определяет необходимость значительного повышения разрешающей способности вакуумно-плазменного травления. Переход к нанометровым размерам требует создания принципиально новых технологических методов и оборудования, обладающих высокой разрешающей способностью. Современные процессы становятся всё более чувствительными как к уровню температуры, так и к её распределению по поверхности. Поэтому становится крайне необходимым обеспечить однородности температуры обрабатываемой подложки и её качественного контроля.

Специалисты ЭСТО также рассказали о ходе работ над проектом по разработке установки электронно-лучевой литографии. Электронно-лучевая литография основана на рисовании топологического рисунка с помощью сфокусированного электронного луча на покрытый слой электронного слоя пластины. Данный проект очень важен для развития отечественной микроэлектроники, поскольку подобное оборудование производится в недружественных странах, которые прекратили свои поставки в Россию. На нашем предприятии имеется технический задел и специалисты, которые проходили обучение на предприятиях CRESTEC, VISTEC и NUFLARE и обслуживают оборудование ведущих мировых производителей.

На сегодняшний подходит к концу стадия технического проекта установки. Уже разработаны и изготавливаются макеты основных ключевых узлов: шлюза, вакуумной системы, манипулятора, привода координатного стола и самого координатного стола. Проводится численное моделирование и исследование макетов ключевых узлов установки. Сформирован пул исполнителей по изготовлению основных узлов.

Разрабатываемое оборудование будет иметь средние технические характеристики по сравнению с мировыми аналогами, что сформирует реальный практический опыт изготовления данного класса оборудования. Минимальный элемент в резисте — 150 нм. Оборудование проектируется с использованием современной элементной базы, программным обеспечением, приводами, оптикой, новыми возможностями расчётов и моделирования электронно-оптической системы. Одна из приоритетных задач при проектировании – максимальная локализация производства.

Во время Форума на территории университета «Сириус» состоялась выставка, участниками которой стали высокотехнологичные предприятия. В этом году наша компания также приняла участие в экспозиции, продемонстрировав своё оборудование и реализуемые технологические процессы. На стенде компании специалисты проконсультировали гостей о возможностях оборудования, а также обсудили с партнёрами текущие проекты и условия сотрудничества.