Сотрудник АО «НПП «ЭСТО» выступил с докладом на семинаре по литографии в Зеленограде
18 ноября в АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ) состоялся семинар «Актуальные технологии и оборудование для литографии и обработки фоторезистов», в рамках которого с докладом выступил Алексей Андреевич Шаталин — сотрудник АО «НПП «ЭСТО».
В своём выступлении Алексей Андреевич представил ключевые этапы реализации проекта по созданию отечественной установки электронно-лучевой литографии, основной задачей которой является воспроизведение структур с минимальным размером элементов в фоторезисте — 150 нанометров.
На сегодняшний день команда АО «НПП «ЭСТО» завершила следующие этапы работ:
Второй этап проекта предусматривает создание установки с характеристиками не уступающими мировым аналогам, включая автоматическую систему загрузки, соответствующую требованиям современного кристального производства, и разрешением до 90 нм. В настоящее время эта версия находится на стадии разработки технического проекта.
Следующие выступления Алексея Андреевича Шаталина с докладом запланированы на профильных семинарах в Санкт-Петербурге — 20 ноября, и в Томске — 27 ноября 2025 года. Это подчеркивает значимость проекта для всей отрасли микро- и наноэлектроники России и стремление АО «НПП «ЭСТО» к открытому диалогу с научным и инженерным сообществом.
В своём выступлении Алексей Андреевич представил ключевые этапы реализации проекта по созданию отечественной установки электронно-лучевой литографии, основной задачей которой является воспроизведение структур с минимальным размером элементов в фоторезисте — 150 нанометров.
На сегодняшний день команда АО «НПП «ЭСТО» завершила следующие этапы работ:
- разработку технического проекта и полного комплекта конструкторской документации;
- изготовление и испытания макетов ключевых узлов установки;
- проведение математического моделирования электронно-оптической системы.
Второй этап проекта предусматривает создание установки с характеристиками не уступающими мировым аналогам, включая автоматическую систему загрузки, соответствующую требованиям современного кристального производства, и разрешением до 90 нм. В настоящее время эта версия находится на стадии разработки технического проекта.
Следующие выступления Алексея Андреевича Шаталина с докладом запланированы на профильных семинарах в Санкт-Петербурге — 20 ноября, и в Томске — 27 ноября 2025 года. Это подчеркивает значимость проекта для всей отрасли микро- и наноэлектроники России и стремление АО «НПП «ЭСТО» к открытому диалогу с научным и инженерным сообществом.