С 9 по 14 октября 2023 года в Сочи прошел Всероссийский форум «Микроэлектроника» - одно из крупнейших мероприятий отрасли. Мероприятие собрало на своей площадке более 2 тысяч специалистов, занятых разработкой, производством и применением отечественной электронной компонентной базы и высокоинтегрированных электронных модулей.

Специалисты АО «НПП «ЭСТО» приняли участие в конференции «ЭКБ и микроэлектронные модули» и выступили с докладами.

Одним из представленных на форуме проектов была разработка электронно-лучевого литографа для изготовления фотошаблонов, что актуально в свете отсутствия в России современного технологического оборудования, необходимого для реализации процессов литографии. Литография является основой нано- и микроэлектроники и обеспечивает информационную безопасность страны, а также прогресс в науке и технике.

Разрабатываемая установка электронно-лучевого экспонирования представляет собой производительную и высокоточную систему для электронно-лучевого экспонирования, которая предназначена для получения топологических структур на фотошаблонах. Разработка обеспечит создание высококачественных фотошаблонов и позволит российским производителям электроники сократить зависимость от импортного оборудования.

Также на пленарном заседании форума специалисты АО «НПП «ЭСТО» обсудили актуальность и возможности внедрения столов с электростатическим прижимом в оборудование для микроэлектронных процессов. Такие столы широко используются в оборудовании иностранного производства для плазмохимического травления, ионной имплантации, магнетронного нанесения и других процессов, однако в российском машиностроении они практически не применяются. В основном используется механический прижим. Однако АО «НПП «ЭСТО» обладает возможностями и перспективами производства электростатических столов. Внедрение столов с электростатическим удержанием позволит снизить топологические ограничения на российском оборудовании и повысить его эффективность при работе с пластинами больших диаметров.

Кроме того, свой доклад представил Виноградов Георгий Константинович, главный конструктор АО «НПП «ЭСТО», рассказав о технологии сверхиндуктивной резонансной плазмы. Данная технология была разработана в Японии и применяется в промышленности с 1996 года. Плазменные источники обладают высоким потенциалом благодаря своей энергоэффективности, скорости и воспроизводимости процессов, а также точным скоростным контролем сжигания разряда и ВЧ согласования. В России возможно организовать серийное производство супериндукционных реакторов, которые могут использоваться в различных видах оборудования для микроэлектронной промышленности и других областей.