Установка ионно-лучевого напыления, функционирующая в условиях вакуума, используется для осаждения тонких пленок посредством использования пучка ионов с положительным зарядом.Благодаря особенностям оборудования удается осуществлять независимый контроль над потоками ионов и энергией пучка. Для этого процесса характерно низкое давление. В результате можно работать с различными материалами, при этом стехиометрия будет хорошо контролируемой. Еще одно несомненное преимущество заключается в сокращении числа посторонних включений в осаждаемых пленках. Оборудование помогает проводить осаждение высококачественных оптических материалов на очень гладких поверхностях. Есть возможность нанесения покрытия на термочувствительную подложку. Также можно выполнять реактивные и нереактивные операции в одной и той же камере без необходимости в перенастройке. С помощью данной технологии удается получать покрытия без эффекта дрейфа под воздействием разных внешних условий. Они проявляют стойкость ко многим факторам.