Чаще всего источники ионов применяются в вакуумном технологическом оборудовании для предварительной ионной очистки образцов перед магнетронным илитермическим напылением. Ионная очистка позволяет стравливать неорганические загрязнения в среде аргона илиорганические в среде кислорода.

Источники ионов выполнены из немагнитной и магнитной нержавеющих сталей с изоляторами из фторопласта.

Рабочее давление: 5х10-2 Па…1х10-1 Па.

Применение: предварительная ионная очистка изделий в вакуумных установках M-RAY.

Используются для предварительной очистки образцов перед напылением. Обработка ионами аргона позволяет стравить слой неорганических загрязнений, а очистка в кислороде позволяет стравливать органические загрязнения.

Данные источники ионов являются источниками щелевого типа. Изготавливаются из нержавеющей стали 12Х18Н10Т и магнитной нержавеющей стали, а так же изоляторов из фторопласта. Анод источника охлаждается водой.

Рабочее давление: 5х10-2…1х10-1 Па.

Применение: ионная очистка изделий в установках M-RAY.