ИНЖЕНЕРЫ
ДЛЯ ИНЖЕНЕРОВ

Россия, 124460, Москва, Зеленоград,
просп. Георгиевский, д. 5, строен. 1

+7 (499) 479 12 39 +7 (499) 479 12 39 +7 (499) 479 77 24

Продукция «НПП «ЭСТО» / Нестандартное оборудование

Отправить заявку

Установка для нанесения негативного фоторезиста

Установка предназначена для двухстороннего нанесения негативного фоторезиста на гибкие подложки методом «вытягивания» и последующей их сушки инфракрасным нагревателем (ИК), как в автоматическом, так и в ручном режиме.
Машина оснащена блоком обеспыливания, для повышения выхода годной продукции и ее качества.
Размещение и фиксация подложек осуществляется на вращающемся столике в технологических оснастках до 8 штук.
Перемещение подложек обеспечивается модулем перемещения вертикального и вращающегося типа.
В автоматическом режиме установка обеспечивает поочередное нанесение и сушку гибких носителей до 8 штук. 
В ручном режиме оператор загружает образцы на модуль вертикального перемещения и с помощью блока управления осуществляет их перемещение.
Температура инфракрасной сушки регулируется ПИД-регулятором серии DTB4848 с точностью поддержания ±5%
Установка имеет возможность регулирования скорости вертикального перемещения каретки с носителями гибких подложек.
Ванна для фоторезиста имеет минимально-возможную площадь зеркала, объем 1,5 литра.
Наличие таймеров для выдержки подложек на воздухе после нанесения и сушке в ИК нагревателе.
 

 

ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ДАННЫЕ И ХАРАКТЕРИСТИКИ

№№
Наименование параметров
Значение параметров:
1.
Основные параметры назначения.
 

 

Материалы и размеры подложек :
Размер рабочего поля, мм
- фольгированные диэлектрики (и со сквозными отверстиями) 110×110
толщиной от 0,1мм;
- фольга медная ДПРНТ размером 100 × 80 толщиной 0,05 мм;
- полиимидная пленка (со сквозными отверстиями и без) диаметром
112 мм, толщиной 0,05 мм;
100×100
 
70 × 60
60 × 54
Скорость перемещения вертикального модуля, мм/сек
15
 
Диапазон регулировки вертикального модуля при подъеме вверх, в зоне нанесения, мин/макс,  мм/сек
1,5…15
 
Диапазон регулировки температуры ИК нагревателей, °С
10…200
 
Скорость воздушного потока блока обеспыливания, м/с
0,4
 
Освещенность рабочего поля, Лк
1000
Степень рециркуляции в рабочей зоне, %
70
Объем ванной для фоторезиста, мл
1000
Регулировка времени таймера, выдержки подложек на воздухе,
мин/макс, ч
0,00001…24
 
Регулировка времени таймера, выдержки подложек в печи,
мин/макс, ч
0,00001…24
 

 

 

Ваша заявка принята!