Главная
ПродукцияРоссийское оборудованиеНестандартное оборудованиеУстановка для двухстороннего проявления негативного фоторезиста
Продукция
- Нестандартное оборудование
- Жидкие процессы литографии
- Лазерное оборудование
- Вакуумное оборудование
- Сборочное оборудование
- Для оптической литографии
- Сборочное оборудование и материалы
- Жидкие процессы литографии
- Измерительное
- Для оптической литографии
- Для высшей степени очистки газов
- Вакуумное
- Для герметизации корпусов
- Для изготовления и обработки подложек
- Для термических процессов
- Ионные имплантеры
- Микроскопы
- ВЧ-генераторы
- Для атомно-слоевого осаждения
- Компрессоры
Российское оборудование
Зарубежное оборудование
Продукция «НПП «ЭСТО» / Нестандартное оборудование
Отправить заявку
Установка для двухстороннего проявления негативного фоторезиста
Установка предназначена для двухстороннего проявления негативного фоторезиста, обеспечивающая возможность групповой обработки в органических растворителях с вынужденными колебаниями раствора и последующий сброс растворителя с подложек, установленных в кассету методом центрифугирования в автоматическом режиме.
Машина оснащена блоком обеспыливания, для повышения выхода годной продукции и ее качества.
Размещение и фиксация подложек осуществляется на подъемнике в технологической оснастке до 6 штук.
Перемещение подложек обеспечивается модулями вертикального и кругового перемещения.
В автоматическом режиме установка обеспечивает поочередное проявление гибких носителей в 4 ваннах с органическим растворителем различной степени чистоты.
Наличие таймера для выдержки подложек в ваннах с органическим растворителем.
Установка имеет возможность регулирования частоты вибрации ванн с органическим растворителем.
Ванна для органического растворителя имеет минимально-возможную площадь зеркала и объем 3 литра.
Установка оснащена центрифугой с электромеханическим приводом с изменяемой частотой вращения в диапазоне 0 – 1500 об/мин.
ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ДАННЫЕ И ХАРАКТЕРИСТИКИ
|
№№
|
Наименование параметров
|
Значение параметров:
|
|
1.
|
Основные параметры назначения.
|
|
|
|
Материалы и размеры подложек :
|
Размер рабочего поля, мм
|
|
- фольгированные диэлектрики (и со сквозными отверстиями) 110×110
толщиной от 0,1мм;
- фольга медная ДПРНТ размером 100 × 80 толщиной 0,05 мм;
- полиимидная пленка (со сквозными отверстиями и без) диаметром
|
100×100
70 × 60
60 × 54
|
|
|
Скорость перемещения кругового модуля, град/сек
|
5
|
|
|
|
Диапазон регулировки вибрации ванн мин/макс, Гц
|
10…70
|
|
|
Скорость воздушного потока блока обеспыливания, м/с
|
0,4
|
|
|
Освещенность рабочего поля, Лк
|
1000
|
|
|
Степень рециркуляции в рабочей зоне, %
|
70
|
|
Объем ванной для органического растворителя, мл
|
3000
|
|
|
Регулировка времени таймера, выдержки подложек в ваннах ,
мин/макс, ч
|
0,00001…24
|
|
|
Регулировка частоты вращения центрифуги , мин/макс, об/мин
|
0…1500
|
